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納米銀填充導(dǎo)電漿料研磨分散機

納米銀填充導(dǎo)電漿料研磨分散機接觸過SGN上海思峻的人都知道,SGN膠體磨和SGN分散機在行業(yè)就是較的設(shè)備,SGN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機和國內(nèi)分散機相比都是存在巨大優(yōu)勢的,而SGN研磨分散機又是將二者結(jié)合的設(shè)備,處理效果,不言而喻。SGN研磨分散機轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是傳統(tǒng)分散機的4-5倍。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-18
  • 訪  問  量:1990
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產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品名稱概述:納米銀填充導(dǎo)電漿料研磨分散機,納米銀填充導(dǎo)電漿料分散機,納米銀導(dǎo)電漿料研磨分散機,納米銀導(dǎo)電漿料分散機

二、納米銀填充導(dǎo)電漿料的發(fā)展

導(dǎo)電漿料是發(fā)展電子元器件的基礎(chǔ)及封裝、電極和互聯(lián)的關(guān)鍵材料。隨著電子元器件向微型化、精密化和柔性化等方向發(fā)展,國內(nèi)外正在開展金屬導(dǎo)電填料納米化研究。其中,納米銀填充導(dǎo)電漿料備受關(guān)注。一般認(rèn)為納米銀填充到基體中,由于粒子間的接觸點面積小,填料粒子數(shù)目增多導(dǎo)致接觸電阻增加。只有當(dāng)納米銀間距離在一定范圍內(nèi)時,由于隧道效應(yīng)等使導(dǎo)電性增強,這主要與其顆粒大小和形貌、表面性質(zhì)和燒結(jié)行為等密切相關(guān)。

導(dǎo)電漿料一般由2-3個基體部分組成,即導(dǎo)電相(金、銀、銅等)、有機載體(有機樹脂和溶劑)和粘結(jié)劑(硅酸鹽玻璃等)。

三、納米銀導(dǎo)電漿料簡介

銀具有較高的導(dǎo)電率、優(yōu)異的物理化學(xué)性能、可接受的價格及其氧化物也具有導(dǎo)電性能等特點廣泛用于導(dǎo)電填料。目前導(dǎo)電銀漿中的導(dǎo)電相主要是微米或亞微米銀粉,這些漿料已不能滿足低溫?zé)Y(jié)和多層布線等新技術(shù)的要求。

由于納米銀的表面效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)等,以納米銀作為導(dǎo)電填料可以提高導(dǎo)電和導(dǎo)熱性;減少銀用量,降低生產(chǎn)成本;降低固化溫度,使銀漿可以應(yīng)用在PET模塊、柔性基板等;改善導(dǎo)電膠剪切強度等。除具有上述明顯的優(yōu)點外,也存在諸如漿料分散穩(wěn)定性較差,放置后極易出現(xiàn)納米銀的團(tuán)聚和沉降,導(dǎo)電性能不穩(wěn)定和適用期短等問題。

四、納米銀填充導(dǎo)電漿料的制備方法

納米銀填充導(dǎo)電漿料的制備方法與微米銀漿料的制備方法相似,主要是將市售或自制的納米銀以干粉或液態(tài)形式,單一或與微米銀片混合,通過機械攪拌、高速剪切、超聲分散、高能球磨等方式分散到有機載體中。目前較為合適的為高速剪切的方式,主要優(yōu)勢為漿料適用性高、產(chǎn)量高、效率高。特別推薦SGN機械GMSD2000系列研磨分散機,轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm,先研磨后分散,解決團(tuán)聚問題,還原納米粒徑,得到多家廠家的認(rèn)可和信任。

五、GMSD2000系列研磨分散機特點

  1、接觸過SGN上海思峻的人都知道,SGN膠體磨和SGN分散機在行業(yè)就是較的設(shè)備,SGN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機和國內(nèi)分散機相比都是存在巨大優(yōu)勢的,而SGN研磨分散機又是將二者結(jié)合的設(shè)備,處理效果,不言而喻。SGN研磨分散機轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是傳統(tǒng)分散機的4-5倍。

  2、國內(nèi)分散機的結(jié)構(gòu)大都都是直連電機,分散機的主軸和電機直連,電機就決定了主軸的轉(zhuǎn)速。而進(jìn)口分散機采用分體式結(jié)構(gòu),通過皮帶進(jìn)行變速,國產(chǎn)設(shè)備由于結(jié)構(gòu)的設(shè)計缺失、機械密封技術(shù)的不足的原因,以及改進(jìn)后成本大幅度的提高問題,一直無法實現(xiàn)高速分散機的自主研發(fā)和生產(chǎn)。

  3、SGN高速剪切研磨分散機有很高的線速度,以及一級磨頭,特殊上深下淺的三層磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。一級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過更細(xì)的兩級進(jìn)行細(xì)微化研磨。磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三層磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。二級分散盤,無論是在分散盤的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤要精密的多。

六、納米銀導(dǎo)電漿料研磨分散機參數(shù)表

型號

流量L/H

轉(zhuǎn)速rpm

線速度m/s

功率kw

入/出口連接DN

GMSD2000/4

300

18000

51

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

13500

51

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

2000

9260

51

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

5000

3664

51

37

DN80/DN65

GMSD2000/30

8000

1825

51

55

DN150/DN125

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